广东省数据知识产权存证登记平台-证书详情

登记信息

光学膜批次质量风险暴露与不良根因分析数据集 已登记

数据申请号：

粤2026060204715
数据登记号：

SZ2026120008187.4
关键词：

光学膜；质量不良；根因诊断；风险评估；原材制程
登记时间：

2026-09-10
平台证书编号：

20260644000008187
数据处理者：

暂无
服务机构：

河源高新区知识产权协同运营中心
登记主体：

广东轩朗光学科技有限公司
法院编号：

广州互联网法院 - 795cb673d1f7cba90390f78c958f09215cc64dfbc08aa85d9482c66c34b15e29-749fc1a4;legalxchain

区块链信息

上链时间：

2026-08-28
所属区块链：

司法联盟链·广东省知识产权保护中心
证据指纹：

5cf327f9e144853d72b785ae032a80c882d00d2cea75f929385b33c02dba3ffbc684c4bbe40ea8e040d0f6f84db62a288928c397935f4854dfae3d71fb029517
区块链存证证书编号：

LXM-GDIPI-23202608286294125771

数据信息

数据简介

该数据集记录了光学膜（扩散、反射、复合膜）生产过程中的批次质量检验数据，涵盖原材端6类缺陷（白点、黑点、涂布不良、白团、横纹、划伤）与制程端4类缺陷（折伤、划伤、裁切不良、脏污）的原始不良记录，以及面积、良品率等基础指标。数据集通过5列中间量（原材/制程不良合计、总不良合计）与4列加工成果实现智能分析：不良根因贡献度比量化原材与制程的结构占比（1.0为纯原材、0为纯制程、-1为零缺陷）；不良根因智能诊断基于贡献度比、集中度阈值（70%）及良品率等级（<0.97严重/0.99轻微）输出根因定位与整改建议；批次质量风险暴露指数以ln(数量)×(1-良品率)×√单片面积×10000度量三维风险；不良分布集中度熵值采用香农熵评价多因素并存程度。数据集适用于供应商质量追溯、机台工艺优化、来料检验策略调整等场景。

数据来源：

自行产生
数据所属行业分类：

C39 计算机、通信和其他电子设备制造业

数据处理规则说明

原材不良合计、制程不良合计、总不良合计为中间量。原材不良合计等于原材_白点、原材_黑点、原材_涂布不良、原材_白团、原材_横纹、原材_划伤六类不良之和，文本型"/"记为0。制程不良合计等于制程_折伤、制程_划伤、制程_裁切不良、制程_脏污四类不良之和，"/"记为0。总不良合计等于原材不良合计加制程不良合计。不良根因贡献度比等于原材不良合计除以总不良合计，总不良合计为0时输出-1。不良根因智能诊断分四步：首先，良品率小于0.97判定为严重，0.97至0.99为一般，不小于0.99为轻微；其次，最大单一不良类型占比不低于70%为集中型；再次，贡献度比不低于0.75为原材主导，不高于0.25为制程主导，其余为混合型；最后组合输出诊断文本与整改建议。批次质量风险暴露指数计算公式为数量取自然对数后乘以1减良品率，再乘以单片面积开平方，最后乘以10000。不良分布集中度熵值采用香农熵公式，各不良类型数值除以总不良合计得概率pi，对pi大于0的项求负的pi乘以ln(pi)之和，总不良合计为0时输出-1。

应用场景描述

本数据集适用于光学薄膜制造企业的生产质量管控场景，覆盖扩散膜、反射膜、复合膜等产品的批次级质量追溯与根因分析。产线质检人员可通过不良根因智能诊断快速定位缺陷来源，区分原材缺陷与制程缺陷，并按严重程度分级处置；质量管理部门可依据批次质量风险暴露指数识别高风险批次，优先调配资源进行拦截与整改；采购与供应链团队可追踪原材不良合计与贡献度比，量化评估供应商来料质量，驱动供应商审核与来料检验流程优化；工艺工程师可结合不良分布集中度熵值判断问题聚焦程度，低熵值指向单一因素易整改，高熵值提示多因素并存需系统排查。此外，数据集支持构建质量预警模型，对生产过程进行实时监控与预测性维护，降低不良率并提升良品率。数据知识产权登记后可作为企业质量管理的数字资产，用于内部决策优化、外部合规举证及行业对标分析。

数据格式：

xlsx
数据更新频率：

其他
数据量：

641

样例数据

详见附件附件下载

数据结构样例

日期客户产品型号类型材质尺寸单片面积数量原材_白点原材_黑点原材_涂布不良原材_白团原材_横纹原材_划伤原材不良面积制程_折伤制程_划伤制程_裁切不良制程_脏污制程不良面积良品数良品面积制程不良率原材不良率良品率总面积检验方式机台原材不良合计制程不良合计总不良合计不良根因贡献度比不良根因智能诊断批次质量风险暴露指数不良分布集中度熵值

数据状态

2026-09-10

数据知识产权登记完成